Нормальный режим работы установки может быть обеспечен автоматическим регулированием и контролем основных технологических параметров.
Для этого при разработке проекта КИП и А необходимо предусмотреть:
1) автоматическое регулирование наиболее ответственных параметров, от соблюдения которых зависит режим работы всей установки в целом;
2) дистанционный и местный контроль параметров, измерение которых необходимо для своевременного регулирования работы установки;
3) необходимую сигнализацию.
Регулирование
Перечень параметров, подлежащих регулированию приведен в табл. 3.1.
Таблица 3.1. Параметры, подлежащие регулированию
Регулируемый параметр |
Рамерность |
Номинальное значение |
Наиболшее возможное отклонение |
Регулирующее воздействие |
1. Расход исходного раствора |
кг/с |
1,61 |
± 0,2 |
Стабилизация |
2. Давление в сепараторе кристаллизаторе |
МПа |
0,0059 |
± 0,001 |
Расход охлаждающей воды на конденсатор КВ3 |
3. Давление рабочего пара перед греющей камерой перед эжектором Э12 на общей линии 4. перед эжектором Э2 |
МПа |
0,1 0,25 0,25 |
± 0,02 ± 0,01 ± 0,01 |
Стабилизация Стабилизация Стабилизация |
4. Массовое содержание кристаллов в крислаллизаторе |
- |
0,4 |
± 0,1 |
Расход греющего пара в греющую камеру кристаллизатора при постоянной температуре раствора. |
Монослой на
основе фуллеренов и краун-эфиров
Проведенные
исследования [3-5] показали, что молекулы С60 при степени покрытия 0,4-0,5
начинают агрегировать уже в газовой фазе, что исключает возможность
формирования монослоя и, как следствие, во ...
Обсуждение результатов
Полученные ранее на кафедре ХТООС МИТХТ им. М.В.Ломоносова
данные [25, 26] показывают, что в системах KI - PdI2 –
фенилацетилен (ФА) и KI - PdI2 – метилацетилен (МА) наблюдаются
развитые релаксацио ...