Степень сцепления плазменного покрытия с подложкой зависит от многих технологических параметров: шероховатость поверхности подложки, температура плазменной струи и подложки, дисперсность порошка и дистанция напыления. Как показано в работе [330], важнейшим фактором является дисперсность порошка, при этом максимальная прочность сцепления гидроксиапатитового покрытия достигается при размере частиц напыляемого порошка ГА 40-70 мкм. Степень развития удельной поверхности в плазменном покрытии может быть на порядок величины больше, чем у исходного порошка, при этом пористость покрытия может изменяться от 5-10 до 50-60%. В структуре покрытий обычно содержатся как макропоры размером до 350 мкм, так и микропоры диаметром меньше 3 мкм. Важно отметить, что пористая структура покрытия, формируемая методом плазменного напыления, способствует эффективному прорастанию костной ткани в поры имплантанта.

Однако известно, что покрытия биоактивных порошков, напыленные непосредственно на основу из титана, могут терять связь с основой, в то время как связь покрытия с костной тканью остается достаточно устойчивой [325]. Одним из способов надежного улучшения прочности адгезии покрытия к титановой основе является использование переходных слоев, обеспечивающих плавный переход свойств от материала покрытия к материалу подложки [325]. В работе [326] описан запатентованный способ получения надежного покрытия ГА, характеризующегося прочностью адгезии 18-20 МПа. Суть метода состоит в том, что авторы используют три промежуточных слоя: 1-й слой - пористый титан, дисперсность 3-10 мкм, 2-й слой - пористый титан, дисперсность 50-100 мкм, и 3-й слой - пористая композиция титановые частицы с ГА (60%Ti, 40%ГА). Создание дополнительной разветвленной поверхности приводит к наиболее прочному закреплению на ней частичек плазменно-напыленного ГА. Для повышения однородности и пористости покрытия предложена технология активации ультразвуковых вибраций подложки в процессе напыления [326].

При плазменном напылении исходного порошка ГА происходит изменение его фазового состава и кристалличности. Например, в работе [331] обнаружено образование вторичных фаз: ТКФ и других ортофосфатов, при напылении высокозакристаллизованного порошка ГА. Рефлексы дифрактограмм материала покрытия значительно уширены по сравнению с таковыми для исходного порошка, что указывает на аморфизацию материала покрытия в процессе его напыления. Сравнительные исследования кинетики растворения покрытия непосредственно после напыления и после дополнительной термической обработки продемонстрировали значительно более высокую скорость растворения исходного покрытия, что обусловлено большей растворимостью аморфизированной и вторичных ортофосфатных фаз. Аморфизация апатита в плазменно-напыленном покрытии была отмечена также и в работе [332]. Аморфизация происходит преимущественно в области интерфейса покрытия с подложкой, аморфная фаза расположена по границам кристаллических зерен. Аморфизацию считают основной причиной снижения адгезионной прочности покрытия с подложкой при физиологических условиях.

В работе [333] исследован процесс, основанный на получении градиентного покрытия ГА на титане в результате сочетания ионно-стимулированного осаждения и последующего плазменного напыления. На рис. 63 приведен эскиз экспериментального имплантата, изготовленного из титана. Предложена технология нанесения покрытий ГА, включающая две стадии:

1) формирование переходного слоя методом ионно-стимулированного роста в вакууме,

2) последующее наращивание слоя биокерамики методом плазменного напыления на воздухе.

На первой стадии вакуумным радиочастотным ионно-стимулированным распылением мишени на подложке формировался переходный слой ГА толщиной от 0,2 до 7 мкм с высокой адгезией (слой 2 на рис. 63). Это достигалось нанесением ГА в условиях меняющейся во времени интенсивности ионной бомбардировки. Ионная бомбардировка была реализована путем подачи на подложкодержатель ВЧ-мощности и постоянного отрицательного напряжения смещения (асимметричный емкостной разряд). Данная технология впервые была разработана и исследована для получения высоко текстурированных пленок диоксида циркония, стабилизированного иттрием, с высокой адгезией [334].

Нанесение переходного слоя ГА производилось с использованием мишени специальной конструкции. Керамические мишени большой площади, как правило, быстро разрушаются в процессе эксплуатации при нанесении пленок с большой скоростью. Это происходит вследствие градиента температуры по толщине мишени, так как мишень с одной стороны разогревается ионной бомбардировкой, а с другой охлаждается водой. Поэтому была использована мишень, собранная из таблеток спеченного при 12500 С ГА или керамики, полученной обжигом при той же температуре смеси ГА с 1 или 10 масс.% ФА. Таблетки имели диаметр 20 мм и толщину 6 мм. Их не приклеивали к мишенедержателю, как это обычно делается, а укладывали на металлическую фольгу, чтобы уменьшить тепловой контакт. Совокупность этих условий обеспечивала пониженный температурный градиент. Перед нанесением покрытия титановые подложки подвергались пероксидно-аммиачной отмывке. Распыление мишеней производилось в вакуумной камере при рабочем давлении 1 Па. Соотношение газов аргон/кислород было 10/1. Вначале осуществлялось предварительное распыление мишени “под заслонку”. Нанесение покрытия начиналось с ионного травления подложек подачей смещения -300 В. Затем открывалась заслонка и напряжение смещения на подложке плавно уменьшалось. На рис. 64 приведена диаграмма изменения ВЧ напряжения на подложке в процессе роста пленки. Процесс ионного травления подложки постепенно сменялся процессом роста пленки в условиях плавно уменьшающейся ионной бомбардировки. Таким образом, обеспечивали условия для взаимной диффузии материалов напыляемой пленки с подложкой с образованием переходного слоя, что и способствовало высокой адгезии формируемого покрытия. Кроме того, такая динамика смещения на подложке приводила к образованию аксиальной текстуры пленки с ориентацией (001). Конечное смещение на подложке показано на рис. 64 горизонтальной линией. Ранее было установлено, что оптимальным для получения плотных пленок является не нулевое значение конечного смещения. Для покрытий различного состава оно находится в пределах –40 ¸ –120 В [334, 335]; при этом покрытия имеют выраженную аксиальную текстуру и более высокую плотность, чем без ионной стимуляции. Поэтому на начальной стадии процесса покрытия получали в условиях ионной бомбардировки, следовательно, они были плотными. Постепенно ионная бомбардировка уменьшалась до нуля, при этом плотность уменьшалась. При отжиге, из-за малой плотности, с поверхности покрытия образуются поры, но не на всю глубину. Отжиг проводили на воздухе при 800OC в течении 5 минут при проведении второго цикла - плазменного напыления. После отжига переходный слой от подложки к пленке не растрескивался. На второй стадии процесса на полученный подслой газовым плазмотроном наносилось покрытие требуемой толщины и химического состава.